มณฑลส่านซี BLOOM Tech Co., Ltd. เป็นหนึ่งในผู้ผลิตและซัพพลายเออร์ของ tetramethyl orthosilicate cas 681-84-5 ที่มีประสบการณ์มากที่สุดในประเทศจีน ยินดีต้อนรับสู่ขายส่งคุณภาพสูง tetramethyl orthosilicate cas 681-84-5 จำนวนมากเพื่อขายที่นี่จากโรงงานของเรา มีบริการที่ดีและราคาที่สมเหตุสมผล
เตตราเมทิลออร์โธซิลิเกตเป็นของเหลวใสไม่มีสี มีกลิ่นเฉพาะตัว ดูดความชื้นได้ง่าย สูตรโมเลกุล C4H12O4Si, CAS 681-84-5 ไม่ละลายในน้ำ สามารถผสมกับตัวทำละลายอินทรีย์ส่วนใหญ่ได้ ละลายได้เล็กน้อยในเบนซีน เอทานอล และอีเทอร์ มันไม่เสถียรเมื่อมีน้ำและค่อยๆสลายตัวเป็นซิลิคอนออกไซด์ในอากาศ สามารถผสมรวมกับตัวทำละลายอินทรีย์ได้อย่างอิสระและไม่ละลายในน้ำ ไวไฟ พิษ. การกัดกร่อน เป็นหนึ่งในสารเคมีอันตราย ถ้าเป็นน้ำก็จะสลายตัวเป็นซิลิกาหนืด หากมีเปลวไฟเปิด อุณหภูมิสูง หรือสัมผัสกับสารออกซิไดซ์อาจทำให้เกิดการเผาไหม้ได้ หลังจากให้ความร้อน มันจะสลายตัวเป็นก๊าซพิษ ซึ่งมีผลระคายเคืองอย่างรุนแรงต่อทางเดินหายใจและดวงตา ใช้สำหรับการผลิตสารเคลือบทนความร้อนและสารเคมี ตัวทำละลายซิลิกอนอินทรีย์ และกาวสำหรับการหล่อที่มีความแม่นยำ นอกจากนี้ยังเป็นสารสังเคราะห์อินทรีย์ที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในระดับกลาง
|
สูตรเคมี |
C4H12O4Si |
|
มวลที่แน่นอน |
152 |
|
น้ำหนักโมเลกุล |
152 |
|
m/z |
152 (100.0%), 153 (5.1%), 153 (4.3%), 154 (3.3%) |
|
การวิเคราะห์องค์ประกอบ |
ค 31.56; สูง 7.95; โอ 42.04; ศรี 18.45 น |
|
|
|
เตตราเมทิลออร์โธซิลิเกตเป็นสารประกอบซิลิกอนที่สำคัญที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในการสังเคราะห์สารอินทรีย์ สารเคลือบ แก้ว เซรามิก และสาขาอื่นๆ ขั้นตอนเฉพาะมีดังนี้:
สมการทางเคมีสำหรับปฏิกิริยาระหว่างโซเดียมซิลิเกตกับกรดซัลฟิวริกเพื่อผลิตออกซิเจนเตตระเมทิลซิลิเกตและโซเดียมซัลเฟตคือ:
นา2SiO3 + H2ดังนั้น4→ นา2ดังนั้น4 + ศรี(ช3)4
ในเครื่องปฏิกรณ์แบบแห้ง ให้เติมโซเดียมซิลิเกต (Na2SiO3) และเมทานอลจำนวนหนึ่ง ตรวจสอบให้แน่ใจว่าโซเดียมซิลิเกตละลายในเมทานอลจนหมด
ค่อยๆ เติมกรดซัลฟิวริกจำนวนหนึ่งเป็นตัวเร่งปฏิกิริยา ให้ความสนใจกับการควบคุมอัตราการเติมกรดซัลฟิวริกเพื่อหลีกเลี่ยงปฏิกิริยาที่มากเกินไป
ให้ความร้อนส่วนผสมของปฏิกิริยาจนถึงอุณหภูมิที่กำหนดและรักษาอุณหภูมิให้คงที่ อุณหภูมินี้ควรจะเพียงพอที่จะกระตุ้นปฏิกิริยา แต่จะไม่ทำให้เกิดปฏิกิริยาข้างเคียงอื่นๆ
ในระหว่างกระบวนการให้ความร้อน โซเดียมซิลิเกตจะทำปฏิกิริยากับกรดซัลฟิวริกเพื่อผลิตโซเดียมซัลเฟตและออกซิเจนเตตระเมทิลซิลิเกต ปฏิกิริยานี้สามารถย้อนกลับได้และสามารถปรับสมดุลของปฏิกิริยาได้โดยการควบคุมสภาวะของปฏิกิริยา (เช่น อุณหภูมิและเวลา)
หลังจากปฏิกิริยาเสร็จสิ้น ให้ทำให้ส่วนผสมของปฏิกิริยาเย็นลงจนถึงอุณหภูมิห้อง
แยกออกซิเจนเตตระเมทิลซิลิเกตที่สร้างขึ้นด้วยวิธีการต่างๆ เช่น การกรองหรือการหมุนเหวี่ยง
ทำการทดสอบความบริสุทธิ์และการวิเคราะห์คุณสมบัติของผลิตภัณฑ์ที่แยกออกจากกันเพื่อให้แน่ใจว่าผลิตภัณฑ์ที่ได้รับเป็นไปตามข้อกำหนด
เมื่อสังเคราะห์ออกซิเจนเตตระเมทิลซิลิเกตในห้องปฏิบัติการ จำเป็นต้องสังเกตประเด็นต่อไปนี้:
ความบริสุทธิ์ของวัตถุดิบมีผลกระทบอย่างมากต่อคุณภาพและผลผลิตของผลิตภัณฑ์ ดังนั้นจึงจำเป็นต้องตรวจสอบให้แน่ใจว่าโซเดียมซิลิเกต เมทานอล และกรดซัลฟิวริกที่ใช้มีความบริสุทธิ์สูงทั้งหมด
อุณหภูมิและเวลาของปฏิกิริยาเป็นปัจจัยสำคัญที่ส่งผลต่อสมดุลของปฏิกิริยา ดังนั้นจึงจำเป็นต้องควบคุมอัตราการทำความร้อนและเวลาปฏิกิริยาเพื่อให้ได้ผลผลิตและความบริสุทธิ์ที่ดีที่สุด
การกรองและการแยกเป็นขั้นตอนสำคัญในการได้รับผลิตภัณฑ์ที่มีความบริสุทธิ์สูง- ดังนั้นจึงจำเป็นต้องเลือกวิธีการกรองและอุปกรณ์แยกที่เหมาะสมเพื่อหลีกเลี่ยงการปนเปื้อนและการสูญเสียของผลิตภัณฑ์
อีกวิธีหนึ่งในการสังเคราะห์ออกซิเจนเตตระเมทิลซิลิเกตคือการเตรียมออกซิเจนเตตระเมทิลซิลิเกตโดยทำปฏิกิริยาไซเลนแอลกอฮอล์กับแอลกอฮอล์
สมการปฏิกิริยาระหว่างไซเลนแอลกอฮอล์กับแอลกอฮอล์:
R1R2SiOH + R3R4OH → R1R2Si(OR3) + OR4H
ในหมู่พวกเขา R1, R2, R3, R4 คือหมู่อินทรีย์ซึ่งสามารถเป็นอัลคิล, เอริล ฯลฯ
สมการปฏิกิริยาไฮโดรไลซิสของ tetramethylsilicate ester:
(ช3)4ศรี (OR3) → (ช3)4ไซโอ + R3OH
การเตรียมวัตถุดิบ: ไซลานอล, แอลกอฮอล์, ตัวเร่งปฏิกิริยา (เช่น กรดซัลฟูริก หรือกรดไฮโดรคลอริก)
ผสมไซเลนแอลกอฮอล์กับแอลกอฮอล์เพื่อให้แน่ใจว่าไซเลนแอลกอฮอล์ในแอลกอฮอล์ละลายหมด
ค่อยๆ เพิ่มตัวเร่งปฏิกิริยาและคนให้เข้ากัน
ทำปฏิกิริยาส่วนผสมของปฏิกิริยาที่อุณหภูมิและความดันที่กำหนด ในระหว่างกระบวนการทำปฏิกิริยา กลุ่มไฮดรอกซิลของไซเลนแอลกอฮอล์จะเกิดปฏิกิริยาเอสเทอริฟิเคชันกับแอลกอฮอล์เพื่อผลิตเอสเทอร์เตตระเมทิลซิลิเกต
กลั่นส่วนผสมของปฏิกิริยาเพื่อแยกเตตระเมทิลซิลิเกตเอสเทอร์
ปฏิกิริยาไฮโดรไลซิสของ tetramethylsilicate ester ทำให้ได้ออกซิเจน tetramethylsilicate
เตตราเมทิลออร์โธซิลิเกต(TMOS) ซึ่งมีสูตรทางเคมี Si (OCH ∝) ₄ เป็นของเหลวไม่มีสีและโปร่งใส มีกลิ่นเอสเทอร์ แต่จะไฮโดรไลซ์และเชื่อมขวางอย่างรวดเร็วเมื่อสัมผัสกับสภาพแวดล้อมที่ชื้น ในฐานะวัตถุดิบหลักในด้านออร์กาโนซิลิกอน หมู่เมทอกซีไซเลนที่สามารถไฮโดรไลซ์ได้สี่กลุ่มในโครงสร้างโมเลกุลของมันทำให้มีปฏิกิริยาที่เป็นเอกลักษณ์ ทำให้มันกลายเป็น "แชมป์ที่มองไม่เห็น" ที่ไม่อาจแทนที่ได้ในสาขาเทคโนโลยีขั้นสูง- เช่น วัสดุที่มีอุณหภูมิสูง- บรรจุภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์ พลังงานใหม่ และการปกป้องอาคาร
1. การบินและอวกาศและวัสดุที่มีอุณหภูมิสูง-
การเคลือบทนอุณหภูมิสูง: วัสดุคอมโพสิตที่เกิดขึ้นจากการรวมกันของ TMOS และฟีนอลิกเรซิน ซึ่งสามารถทนต่ออุณหภูมิสูงกว่า 1,000 องศา และมีการใช้กันอย่างแพร่หลายในสภาพแวดล้อมที่รุนแรง เช่น หัวฉีดเครื่องยนต์จรวด และชั้นฉนวนยานอวกาศ ตัวอย่างเช่น หลังจากใช้การเคลือบแบบ TMOS บนเปลือกนอกของยานอวกาศบางประเภท อุณหภูมิพื้นผิวลดลง 40% และประสิทธิภาพการป้องกันความร้อนเพิ่มขึ้น 60% ในการทดลองการแผ่รังสีในอวกาศจำลอง
วัสดุตั้งต้นของเซรามิก: ในฐานะของสารตั้งต้นสังเคราะห์สำหรับเซรามิกซิลิเกตที่มีอุณหภูมิสูง- TMOS จะสลายตัวที่อุณหภูมิสูงเพื่อสร้างโครงสร้างเครือข่ายซิลิกา ส่งผลให้วัสดุเซรามิกมีความแข็งแรงเชิงกลที่ดีเยี่ยมและมีเสถียรภาพทางเคมี ส่วนประกอบเซรามิกที่เตรียมไว้ได้ถูกนำมาใช้ในส่วนประกอบสำคัญ เช่น ใบพัดกังหันของเครื่องยนต์อากาศยาน และแท่งควบคุมเครื่องปฏิกรณ์นิวเคลียร์
2. บรรจุภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์ ไฟฟ้า และเซมิคอนดักเตอร์
การปรับเปลี่ยนการห่อหุ้มอีพ็อกซี่: ในบรรจุภัณฑ์เซมิคอนดักเตอร์ การเติม TMOS สามารถลดอัตราการดูดซึมน้ำของอีพอกซีเรซินได้ 66% และปรับปรุงความต้านทานต่อการเปลี่ยนแปลงความร้อนด้วยความร้อน ผู้ผลิตชิปบางรายได้เพิ่มอัตราผลตอบแทนของบรรจุภัณฑ์จาก 91.8% เป็น 98.5% โดยการปรับเนื้อหา TMOS ให้เหมาะสม ซึ่งช่วยประหยัดต้นทุนต่อปีได้มากกว่า 10 ล้านหยวน
กระบวนการสะสมไอสารเคมี (CVD): TMOS ทำหน้าที่เป็นแหล่งซิลิคอนและสลายตัวเป็นฟิล์มบางของซิลิคอนไดออกไซด์อสัณฐานในระหว่างกระบวนการ CVD ซึ่งใช้ในการผลิตชั้นแยกวงจรรวม ชั้นป้องกันไวแสง ฯลฯ อย่างไรก็ตาม TMOS เกรดอิเล็กทรอนิกส์ระดับ 9N ในประเทศยังคงต้องอาศัยการนำเข้า ส่งผลให้อัตราผลตอบแทนของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ในประเทศมีช่องว่าง 8.2%
3. ในด้านพลังงานใหม่
การเคลือบตัวแยกแบตเตอรี่ลิเธียม: อนุภาคนาโนซิลิกาที่เกิดจากเตตราเมทิลออร์โธซิลิเกตการไฮโดรไลซิสสามารถเคลือบบนพื้นผิวของตัวคั่นได้สม่ำเสมอ ทำให้เกิดโครงสร้างที่มีรูพรุนหนาแน่น ข้อมูลการทดลองแสดงให้เห็นว่าอัตราการหดตัวเนื่องจากความร้อนของเมมเบรนที่เคลือบด้วย TMOS น้อยกว่า 1% ที่ 250 องศา ในขณะที่เมมเบรนที่ไม่ผ่านการบำบัดมีอัตราการหดตัว 35% ซึ่งช่วยเพิ่มความปลอดภัยของแบตเตอรี่ได้อย่างมาก
ฟิล์มป้องกันการสะท้อนของเซลล์แสงอาทิตย์: การแนะนำวัสดุนาโนที่ใช้ TMOS ลงในฟิล์มห่อหุ้มของโมดูลเซลล์แสงอาทิตย์สามารถเพิ่มการส่งผ่านแสงอาทิตย์ได้ 2.3% และเพิ่มการผลิตพลังงานต่อปีของโมดูลเดียวได้ประมาณ 15 องศา
สถานการณ์การใช้งานที่เกิดขึ้นใหม่: "การเชื่อมโยงทางเทคโนโลยี" สำหรับนวัตกรรมข้ามอุตสาหกรรม
1. การป้องกันอาคารและวัสดุศาสตร์
การเพิ่มประสิทธิภาพการป้องกันการกัดกร่อนของคอนกรีต-: การเคลือบป้องกันที่เกิดขึ้นจากการผสมผสานระหว่าง TMOS และสารละลายซิลิเกตสามารถเจาะเข้าไปในคอนกรีตภายในได้มากกว่า 10 มม. ทำให้เกิดโครงสร้างโครงข่ายซิลิกาหนาแน่น ในสภาพแวดล้อมที่มีการกัดกร่อนชายฝั่ง อายุการใช้งานของโครงสร้างคอนกรีตที่ได้รับการรักษาด้วย TMOS จะเพิ่มขึ้นเป็น 30 ปี ซึ่งมากกว่าวัสดุแบบดั้งเดิมถึงสามเท่า
วัสดุฉนวนความร้อน Airgel: ซิลิกาแอโรเจลที่เตรียมโดยวิธีโซลเจลด้วย TMOS เนื่องจากแหล่งซิลิคอนมีค่าการนำความร้อนต่ำถึง 0.012W/(m · K) ซึ่งเป็นเพียง 1/3 ของแผ่นโพลีสไตรีน แผ่นฉนวนที่ผลิตจากแผงฉนวนดังกล่าวถูกนำไปใช้ในสถานการณ์ต่างๆ เช่น สถานีวิจัยทางวิทยาศาสตร์ของอาร์กติก และห้องเย็นอุณหภูมิต่ำพิเศษ-
2. วิศวกรรมชีวการแพทย์และเนื้อเยื่อ
แก้วที่ออกฤทธิ์ทางชีวภาพ: แก้วที่ออกฤทธิ์ทางชีวภาพที่เตรียมโดยการเผา TMOS ที่อุณหภูมิสูง-ผสมกับเกลือแคลเซียมและฟอสเฟต ซึ่งสามารถส่งเสริมการยึดเกาะและการแพร่กระจายของเซลล์กระดูก การทดลองในสัตว์ทดลองแสดงให้เห็นว่าแบบจำลองข้อบกพร่องของกระดูกที่ฝังด้วยโครงแก้วที่ใช้ TMOS สามารถสร้างกระดูกใหม่เพิ่มขึ้น 40% ภายใน 4 สัปดาห์ เมื่อเทียบกับวัสดุแบบดั้งเดิม
สารพาหะที่มีการปลดปล่อยยาแบบควบคุม: อนุภาคนาโนซิลิกามีโซพอรัสที่เตรียมโดยปฏิกิริยาควบแน่นไฮโดรไลซิสของ TMOS ที่มีพื้นที่ผิวจำเพาะ 1,000 ตร.ม./กรัม สามารถบรรจุยาเคมีบำบัดด็อกโซรูบิซิน และได้รับการปลดปล่อยโดยตอบสนองต่อ pH การศึกษาพรีคลินิกยืนยันว่าผลในการยับยั้งเนื้องอกนั้นสูงกว่ายาที่ไม่เสียค่าใช้จ่ายถึง 2.8 เท่า
3. เครื่องใช้ไฟฟ้าและวัสดุอัจฉริยะ
Flexible display packaging: TMOS based inorganic organic hybrid material, with high light transmittance (>92%) และโมดูลัสการดัดงอต่ำ (<1GPa), can meet the strict requirements of foldable screen phones for packaging layers. After using this material in the latest folding machine of a certain brand, the screen bending life has exceeded 500000 times.
การเคลือบซ่อมแซมตัวเอง: ด้วยการแนะนำพันธะโควาเลนต์แบบไดนามิก อนุพันธ์ของ TMOS สามารถใช้เพื่อเตรียมการเคลือบด้วยฟังก์ชันการรักษารอยขีดข่วนด้วยตนเอง- ในการทดสอบการสึกหรอจำลองในแต่ละวัน รอยขีดข่วนบนพื้นผิวเคลือบสามารถหายไปได้อย่างสมบูรณ์ภายใน 30 นาที ด้วยอัตราการคืนตัวที่ 98%
1. กระบวนการสังเคราะห์สีเขียว
การเพิ่มประสิทธิภาพของระบบตัวเร่งปฏิกิริยา: การสังเคราะห์ TMOS แบบดั้งเดิมใช้วิธีซิลิคอนเตตระคลอไรด์ ซึ่งสร้างก๊าซเสีย HCl จำนวนมาก ตัวเร่งปฏิกิริยาตะแกรงโมเลกุลใหม่สามารถบรรลุเอสเทอริฟิเคชันโดยตรงของเมทานอลและผงซิลิกอน โดยมีอัตราการใช้อะตอมเพิ่มขึ้นเป็น 95% และลดการปล่อยไอเสียลง 80%
เทคโนโลยีการรีไซเคิลแบบวงปิด: ระบบวงจร "การฟื้นฟูไฮโดรไลซิส" ได้รับการพัฒนาขึ้นเพื่อจัดการกับคุณลักษณะไฮโดรไลซิสที่ไม่สามารถย้อนกลับได้ของ TMOS ด้วยการควบคุมสภาวะการเกิดปฏิกิริยา อัตราการฟื้นตัวขององค์ประกอบซิลิกอนในของเหลวเสียจะเพิ่มขึ้นเป็น 90% และลดต้นทุนต่อตันของผลิตภัณฑ์ได้ 2,000 หยวน
2. การพัฒนาวัสดุประสิทธิภาพสูง-
วัสดุสำหรับการไล่ระดับ: ด้วยการใช้ปฏิกิริยาโคพอลิเมอไรเซชันของ TMOS และโมโนเมอร์ออร์กาโนซิลิคอน ทำให้สามารถเตรียมวัสดุสำหรับการไล่ระดับที่มีค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนที่เปลี่ยนแปลงอย่างต่อเนื่อง วัสดุนี้ถูกนำมาใช้ในระบบป้องกันความร้อนของยานอวกาศ ซึ่งช่วยแก้ปัญหาการแตกร้าวที่เกิดจากความเครียดจากความร้อนในวัสดุแบบดั้งเดิมได้อย่างมีประสิทธิภาพ
เรซินการพิมพ์ 3 มิติ: ด้วยการควบคุมอัตราการไฮโดรไลซิสของ TMOS ทำให้เรซินที่รักษาด้วยรังสียูวีได้รับการออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับการพิมพ์ 3 มิติ ความแม่นยำในการพิมพ์สูงถึง 20 μ m ซึ่งสามารถนำไปใช้ในการผลิตอุปกรณ์ที่มีความแม่นยำสูง- เช่น ชิปไมโครฟลูอิดิกและเลนส์สายตา
3. การบูรณาการสหวิทยาการและนวัตกรรม
การห่อหุ้มจุดควอนตัม:เตตราเมทิลออร์โธซิลิเกตเปลือกซิลิคอนไดออกไซด์ที่มีพื้นฐานสามารถผ่านข้อบกพร่องที่พื้นผิวของจุดควอนตัมได้อย่างมีประสิทธิภาพ โดยเพิ่มผลผลิตควอนตัมเรืองแสงเป็น 85% เทคโนโลยีนี้ถูกนำไปใช้กับโมดูลไฟแบ็คไลท์ LED ขนาดเล็ก โดยมีอัตราการครอบคลุมขอบเขตสีเกิน 120% ของ NTSC
วัสดุเชื่อมต่อประสาท: อนุพันธ์ของ TMOS รวมกับโพลีเมอร์นำไฟฟ้าเพื่อเตรียมการเคลือบอิเล็กโทรดประสาทที่ผสมผสานความเข้ากันได้ทางชีวภาพและการนำไฟฟ้า ในการทดลองไพรเมต สารเคลือบสามารถบันทึกสัญญาณประสาทได้อย่างเสถียรเป็นเวลานานกว่า 6 เดือน ซึ่งเป็นการรองรับวัสดุหลักสำหรับเทคโนโลยีอินเทอร์เฟซคอมพิวเตอร์สมอง
ป้ายกำกับยอดนิยม: tetramethyl orthosilicate cas 681-84-5, ซัพพลายเออร์, ผู้ผลิต, โรงงาน, ขายส่ง, ซื้อ, ราคา, จำนวนมาก, ขาย